PVD 진공 코팅 기계를 침을 튀기기 티타늄 질화물 자전관 꼭대기에

1. 자전관 침을 튀기 원리에 의하여 음극 백열 출력, 그것의 이론에 팽창합니다 근거를 둡니다

일 조각 표면의 가까이에 음극선 지상 자기장. 다음 그것은 침을 튀긴 원자를 개량합니다

이온화 비율. 그것은 또한 자전관 침을 튀기 균등성을, 수 있습니다 지상 빛나는 효력을 개량할 지킵니다.


2. 아크 플라스마 증발 근원은 음극선 낙관에 있는 40A 현재의 밑에 믿을 수 있습니다, 그것 일할 수 있습니다

그리고 자기장 구조. 그것은 원자 유포 코팅과 물자 사이 일어날 것입니다. 그것

lon 광속이 공술서를 원조했다 또한 이점이 있습니다.


3. 양수 체계, 전기 통제 시스템을 진공 청소기로 청소하거든 완전한 진공 코팅 체계는 일 수 있습니다

사용자 요구에 따라 주문을 받아서 만드는.

4. 그것은 장비 저온 이온 이차 요인, 물자, 그것 가열 없는 어떤 기질 할 수 있습니다

직접 실내 온도에 찬 도금 영화를, 절약합니다 에너지를, 증가합니다 생산력을 하십시오.


5. 공구 입히는 약실을 위한 온도의 최대는 공구 이외에 600도, 할 수 있습니다

Coater 코팅 신청은 난방 장치를, 다른 신청 필요로 하지 않습니다 장치를 요구합니다.
 

진공 코팅 기계, 의 밑에 소위 “비말”의 자전관 침을 튀기기 일 원리,

전기장에 있는 전자의 활동은 아르곤을 가진 충돌의 과정에서 기질에 가속합니다

밖으로 원자, 이온화 다량의 아르곤 이온 및 전자. 전자는 기질으로 납니다,

아르곤 이온은 큰 것 밖으로 침을 튀기는 전기장의 활동의 밑에 표적 물자를 가속화합니다

표적 원자의 수, 및 중립 표적 원자 (또는 분자 기질에) 형성하기 위하여 예금됩니다

영화. lorentz의 과정에서 자기장에 의하여 기질에 날 것이다 가속에 있는 이차 전자

자기력, 표적 표면 플라스마의 가까이에 좁은 지역, 에 있는 플라스마 조밀도의 영향

지역은 표적 표면의 주위에 자기장의 활동의 밑에 아주 높습니다, 이차 전자 입니다

원운동은, 전자 동의 경로 충격의 운동의 과정에서 아주 길, 끊임없이

밖으로 이온화의 충돌의 많은 시간 후에 표적의 다량의 아르곤 이온 사격,

전자 에너지는 점차적으로, 떨어져 던져 표적에서 자기장 선의 멍에이라고, 멀리 감소시킵니다

물자, 기질에 마지막 공술서.